應用專欄

如何提高電子束微影的良率:掌握消磁器選擇的關鍵

2023年半導體雖然面臨後疫情時代的市場挑戰,先進製程微縮仍是半導體製造業的發展趨勢,其中電子束微影(Electron Beam Lithography,簡稱EBL)更是具潛力發展的技術之一,其應用範圍包含:微小電子元件、生物芯片、光學元件、量子器件、奈米結構材料、微型機械結構等領域。因此,如何在複雜技術中提高良率以降低成本,解決電磁干擾等環境問題至關重要。

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不能不知道的掃描式電子顯微鏡(SEM)微粒分析技術

科技的躍進時代下,樣品觀測不再受光波的波長所局限,電子顯微鏡的發明突破了光學顯微鏡的解析度瓶頸,造就了探索與開啟奈米世界的鑰匙,而粉末微粒便是奈米世界中的小巨人,微小的顆粒卻能影響甚至改變各種物質的變化,其影響領域不只侷限在工業領域(高分子材料),近年來以奈米科技延伸發展…

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TEM grid載網規格與用途簡介,選擇適用的載網,確保製樣流程順利

TEM grid載網規格與用途簡介

穿透式電子顯微鏡(TEM)中使用的載網(grid,支撐網,或以常用規格鍍碳銅網代稱),為特殊結構,非常薄,通常在10到100奈米之間,主要用於支撐樣品,使電子能穿透樣品,並幫助樣品定位,同時減少不需要的背景信號。載網有多種圖案和材質可供選擇,其上也可加上不同薄膜/塗層,以適合各種應用。

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