
如何提高電子束微影的良率:掌握消磁器選擇的關鍵
2023年半導體雖然面臨後疫情時代的市場挑戰,先進製程微縮仍是半導體製造業的發展趨勢,其中電子束微影(Electron Beam Lithography,簡稱EBL)更是具潛力發展的技術之一,其應用範圍包含:微小電子元件、生物芯片、光學元件、量子器件、奈米結構材料、微型機械結構等領域。因此,如何在複雜技術中提高良率以降低成本,解決電磁干擾等環境問題至關重要。
2023年半導體雖然面臨後疫情時代的市場挑戰,先進製程微縮仍是半導體製造業的發展趨勢,其中電子束微影(Electron Beam Lithography,簡稱EBL)更是具潛力發展的技術之一,其應用範圍包含:微小電子元件、生物芯片、光學元件、量子器件、奈米結構材料、微型機械結構等領域。因此,如何在複雜技術中提高良率以降低成本,解決電磁干擾等環境問題至關重要。
隨著微電子元件、微控制器時代來臨,半導體製程需要更高倍率的成像品質。然而,來自於外部環境如EMI等眾多干擾容易影響解析度,要釐清是否為設備故障問題往往需要耗費大量時間成本。
您也有電磁干擾問題需要解決嗎?眾多消磁器中不知哪一款最適合?Spicer Consulting提供一系列主動式消磁器選擇指引,依不同產業應用層面及場地客製化解決磁場干擾問題。
位於捷克的利貝雷茨技術大學不織布和奈米纖維材料系,在靜電紡絲技術方面擁有超過 6 年的經驗,在其他不織布技術方面,也同樣累積了超過40 年以上的經驗。在豐富經驗累積的條件下,該單位目前已經能…
科技的躍進時代下,樣品觀測不再受光波的波長所局限,電子顯微鏡的發明突破了光學顯微鏡的解析度瓶頸,造就了探索與開啟奈米世界的鑰匙,而粉末微粒便是奈米世界中的小巨人,微小的顆粒卻能影響甚至改變各種物質的變化,其影響領域不只侷限在工業領域(高分子材料),近年來以奈米科技延伸發展…
鋰離子電池在越來越多的應用領域廣泛使用,鋰電池材料分析的主要挑戰在於它們在空氣中非常易起反應。Phenom XL G2氬氣兼容桌上型掃描式電子顯微鏡採用專門技術,是唯一能夠完全放置在充滿氬氣手套箱內的掃描式電子顯微鏡,讓您能夠對對空氣敏感的鋰電池樣品進行研究。
穿透式電子顯微鏡(TEM)中使用的載網(grid,支撐網,或以常用規格鍍碳銅網代稱),為特殊結構,非常薄,通常在10到100奈米之間,主要用於支撐樣品,使電子能穿透樣品,並幫助樣品定位,同時減少不需要的背景信號。載網有多種圖案和材質可供選擇,其上也可加上不同薄膜/塗層,以適合各種應用。
什麼是場發射電子顯微鏡(FE-SEM)?FE-SEM跟傳統掃描式電子顯微鏡(SEM)有什麼不同?本文詳細解紹場發射電子顯微鏡的不同燈絲源,並詳述熱場發射電子顯微鏡跟冷場發射電子顯微鏡的差別,勀傑科技還代理了桌上型場發射電子顯微鏡。FE-SEM不再如同以往那般遙不可及了喔!
諮詢專線:0800-888-963|公司傳真:02-22180048|Email:sales@kctech.com.tw|地址:新北市中和區中山路二段 389 號 2F|Copyright © 勀傑科技有限公司
諮詢專線:0800-888-963
| 公司傳真:02-22180048
| Email:sales@kctech.com.tw
| 地址:新北市中和區中山路二段389號2F
Copyright © 勀傑科技有限公司