
直流磁場干擾對電子顯微鏡和電子束光刻設備的影響
在電子顯微鏡或電子束光刻設備附近,直流磁場強度的變化可能降低影像品質(如:導致影像失真、模糊或漂移)並影響生產效率。直流磁場變化的常見來源包括電梯、火車、卡車和金屬門。針對這些直流磁場干擾問題的解決方法,通常依據每個實驗室的設計和設備配置的不同而有所調整。
在電子顯微鏡或電子束光刻設備附近,直流磁場強度的變化可能降低影像品質(如:導致影像失真、模糊或漂移)並影響生產效率。直流磁場變化的常見來源包括電梯、火車、卡車和金屬門。針對這些直流磁場干擾問題的解決方法,通常依據每個實驗室的設計和設備配置的不同而有所調整。
為了實現可靠的晶片封裝,所有內部接口的表面必須清潔,以保證良好的附著力。透過電漿清洗機可去除表面上的有機物、氧化物和氟化物污染物,促進引線接合和晶片封裝更好的界面黏合力,減少焊盤不黏、接合翹起和底部填充空洞問題。
Miltenburg 參加了一次探險活動:前往新形成的熔岩洞。他的任務是運輸、安裝和監控Phenom XL G2,這款方便攜帶的掃描式電子顯微鏡(SEM)對此次任務影響深遠,它能使科學家從洞穴牆壁上取樣在幾分鐘內,就可對高度不穩定的礦物質和微生物進行微觀樣品檢查。
催化劑涉及超過80% 以上的成品的加工,是現代工業的重要製程。多功能奈米粒子催化研究對現代環保製程、汽車觸媒轉換器皆具重要性。掃描透射電子顯微鏡 (S/TEM)能量色散 X 射線光譜 (EDS) 結合已被證明是直接觀察和量化這些資訊的重要研究工具。
瓷磚在生產過程結束時,會進行缺陷分析去剔除有缺陷的瓷磚,然而,這是一個成本高昂的程序。瓷磚上有微小且不平整的表層是常見的問題,SEM不僅能進行奈米級成像,還提供了化學組成資訊,可用於調查成分中是否含有異常物質、某種物質是否過量或濃度是否不符合規範,對於產品品質控管至關重要。
高性能過濾的關鍵在於合成纖維的發展,為了最佳化過濾器的設計,纖維直徑、密度和表面形態等特徵都需要被優化。傳統的纖維分析方法難以勝任這類多型態的分析需求,掃描式電子顯微鏡 (SEM)提供卓越的解析度,能同時自動分析多根纖維。
要有效生產金屬就需要對夾雜物和沉澱物進行精確控制。這些物質或許是具有可增加材料強度的作用,也可能僅能被當成雜質。根據其一致性和分佈情況,極大地影響品質和使用壽命。Phenom SEM可執行的金屬材料分析重點,包括:微奈米顆粒計數、使用能量色散 X 射線光譜進行高通量化學分析。
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