應用專欄

濺鍍機_調整參數

濺鍍機該如何選?從調整參數看起

掃描式電子顯微鏡(SEM)的成像原理是電子訊號源產生電子後與樣品表面產生交互作用,再由偵測器接收不同類型電子(像是背向散射電子或二次電子)進行成像。具導電性樣品可導出交互作用於樣品表面的電子,若是…

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表面分析

表面分析是什麼?捕捉半導體製程缺陷必備!

在半導體製程當中,想要精確的發現製程缺陷,少不了半導體缺陷分析。而在這中間表面分析儀器與手法更是重中之重。本文大略介紹了何為表面分析技術,以及一些常見的表面分析工具,包含SEM、XPS、AES、AFM和SIMS,還有這些工具在不同步驟中的應用。

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電子顯微鏡的安裝規劃 – 如何減少或消除干擾

為了不斷提高電子顯微鏡解析度和成像品質,製造商的環境規範變得越來越嚴格,配備光譜儀的高階顯微鏡只能承受高達 10 或 20 奈米特斯拉的干擾;在無法遷移其他設備並重新安置所有設施的情況下,可以採取不同措施來應對震動和磁場的嚴重性並抵消其影響。

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需要潔淨度分析的真正原因與解決方案

為了確保高品質的零件,最常見的檢查方式之一是潔淨度分析。以往對於潔淨度通常使用兩種方式:重量污染物分析的「重量法」和計算顆粒數量的「光學法」。 隨著SEM 和EDS 技術的引入,現在能夠調查更小顆粒的存在,以及區分高硬度的顆粒。

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