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原子力掃描電鏡一體機AFM-in-Phenom XL

臨場多模態關聯分析——完美融合SEM / EDS與AFM的革命性技術

傳統分析需在SEM與AFM兩台設備間切換,不僅耗時、容易失真,更難以精確定位相同區域。此產品專為無縫整合至Thermo Fisher Phenom XL設計,在臨場(in-situ)條件下同步、同區獲取數據,開闢全新的微觀分析視角。

適用產業有半導體、電池材料、金屬材料、先進封裝、塗層材料、奈米科技、學術研究等。

✔ 高解析表面形貌分析
✔ 電性與磁性量測
✔ AFM + SEM + EDS 整合分析
✔ 真空環境臨場量測
✔ 桌上型高效能奈米分析平台

產品核心優勢

✓ Compact, Fast & Cost-effective
桌上型設計,節省實驗室空間
快速載入與量測流程
自動化操作,提高檢測效率
適用 QC(品質管制)與 FA(失效分析)

✓ In-situ Correlative Analysis
AFM、SEM、EDS 於同一環境條件下完成分析
精準定位微小特徵
避免樣品移動造成誤差
無空氣暴露風險,適合敏感材料分析

✓ Multimodal Characterization
單一平台即可獲得:元素成分分析、
表面形貌、粗糙度分析、機械性質、
導電特性、磁性特性

產品應用領域

Particle Analysis
● 藥品顆粒
● 陶瓷材料
● 電池粉體
● 塗層與塗料分析

Battery Materials
● Cathode Active Material 分析
● 導電性分佈量測(C-AFM)
● 電池循環劣化研究
● 真空環境下避免樣品氧化與污染

Steel & Metal Analysis
● Duplex Steel相別分析
● Ferrite / Austenite區分
● 腐蝕與失效分析
● 金屬材料品質檢驗

Semiconductor Failure Analysis
● 缺陷定位
● 表面特徵分析
● 電性量測與失效機制研究

規格

·  設備掃描範圍(Open loop):100μm×100μm×20μm

·  設備掃描範圍(Close loop):70μm×70μm×20μm

·  分辨率:0.2nm×0.2nm×0.04nm

·  最大樣品尺寸:40mm×40mm×8mm

·  最大樣品重量:100g

·   成像模式:表面形貌、粗糙度、CAFM、KPFM、FMM、PFM、EFM、F-z curves、I-V curves等

產品品牌:NenoVision

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